Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI ...
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Titel: Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications (Materials Science and Process Technology Series), Untertitel: 23,5x15,6x1,8 cm, Einband: Gebundene Ausgabe, Autor: John E. Schmitz, Verlag: William Andrew Inc, Sprache: Englisch, Seiten: 251, Maße: 235x156x18 mm, Gewicht: 477 g, Verkäufer: kischii.
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